MP工具箱 | MS3000粒度儀報(bào)告參數(shù)解釋

Measurement Details

展示樣品測(cè)試的細(xì)節(jié)： 

樣品名稱(chēng)，sop名稱(chēng)，操作者姓名；分析日期，編輯日期，結(jié)果來(lái)源等。

Analysis

測(cè)試主要設(shè)置：

• 顆粒類(lèi)型：樣品的折射率，吸收率，用于米氏理論計(jì)算 •

• 分散劑類(lèi)型：分散體系的折射率，如果是干法則為1 

• 散射模型：米氏理論，馬爾文MS3000采用米氏理論計(jì)算 

• 分析模型：一般選擇通用

• 加權(quán)殘差：體現(xiàn)理論光強(qiáng)和實(shí)際光強(qiáng)擬合質(zhì)量，一般＜2% 

• 遮光度：樣品加入量，濕法5-15%，干法0.5-6%。顆粒越大，建議加入量越大；顆粒＜1μm時(shí)，遮光度應(yīng)小于10%，以避免多重散射

Result

測(cè)試結(jié)果和特征參數(shù)：

• 濃度：體積濃度，通過(guò)朗伯-比爾定律計(jì)算得到，可忽略

• 徑距（Span）：表征樣品分布寬度

• 一致性（Uniformity）：表征樣品均一性 

• 比表面積：因?yàn)轭w粒形狀均一性、樣品密度、計(jì)算方法等問(wèn)題，這個(gè)結(jié)果僅供參考。
  

• D[4,3]：體積加權(quán)平均直徑(推薦)

• D[3,2]：表面積加權(quán)平均直徑

• Dv10/50/90 累積分布特征值：指分布累積到10%、50%、90%處的粒徑值，v表示體積分布

• 分布圖：頻率曲線(xiàn)（常用）、另外還有下累積曲線(xiàn)、上累積曲線(xiàn)

• 表格：頻率（常用，區(qū)間內(nèi)結(jié)果）、下累積（常用）、上累積