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    高效安裝X射線衍射儀:分享其前期準備工作秘訣!
    發(fā)布時間:2025-04-07

    X射線衍射儀是一種利用X射線衍射原理來精確測定物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)、織構(gòu)及應力,進行物相分析、定性分析、定量分析的儀器。其基本原理是:當一束X射線照射到晶體物質(zhì)上時,由于晶體是由原子規(guī)則排列成的晶胞組成,這些規(guī)則排列的原子間距離與入射X射線波長有相同數(shù)量級,故由不同原子散射的X射線相互...

    • 發(fā)布時間:2025-03-31

      納米顆粒跟蹤分析儀是一種先進的儀器,用于對液體懸浮液中的納米顆粒進行粒度分布和濃度分析。是利用光散射和布朗運動的原理,對懸浮液中的納米顆粒進行追蹤和分析。當激光束穿過樣品溶液時,顆粒會散射光線,通過高靈敏度的光學顯微鏡收集這些散射光信號,并觀察粒子的運動軌跡。基于布朗運動理論,利用Stokes-Einstein方程計算顆粒的流體力學半徑,從而得到粒度分布信息。納米顆粒跟蹤分析儀常見的問題及對應的解決方法:一、樣品制備相關問題①問題:樣品濃度過高或過低。表現(xiàn):如果樣品濃度過高,...

    • 發(fā)布時間:2025-03-27

      納米粒度電位儀是一種在科研和工業(yè)領域廣泛使用的精密物理測量工具,能夠準確測量納米級別的顆粒大小和電位變化。其基于電學和納米技術(shù)的結(jié)合,通過電泳和沉降原理來測量顆粒的大小和電位。在電場作用下,顆粒會受到電場力的作用而發(fā)生移動,其移動速度與顆粒的大小、形狀和電荷量有關。通過測量顆粒在電場中的移動速度,可以推算出顆粒的大小和電位。具體來說,激光散射技術(shù)用于測量顆粒的尺寸分布,而電泳技術(shù)則用于測量顆粒的表面電荷性質(zhì),即Zeta電位。納米粒度電位儀其結(jié)構(gòu)主要包括以下幾個部分:1、光學系...

    • 發(fā)布時間:2025-03-24

      微量熱差示掃描量熱儀是一種先進的熱分析儀器,它在材料科學、化學、藥物研發(fā)、食品工業(yè)及能源領域等多個方面發(fā)揮著重要作用。其工作原理基于比較樣品與參比物在相同加熱或冷卻條件下的熱流差異。當樣品發(fā)生物理或化學變化時,如熔融、結(jié)晶、玻璃化轉(zhuǎn)變等,會吸收或釋放熱量,導致與參比物的熱流產(chǎn)生偏差。DSC通過精確測量這種偏差,并將其轉(zhuǎn)化為熱流隨溫度或時間變化的曲線,從而提供豐富的物質(zhì)信息。以下是關于微量熱差示掃描量熱儀結(jié)構(gòu)的詳細說明:一、主要組成部分1、傳感器單元測溫傳感器:通常采用高精度的...

    • 發(fā)布時間:2025-03-21

      磨料用SiO2漿料的顆粒粒度對硅晶片的微觀形貌有直接影響,進而會影響到后續(xù)工序電介質(zhì)膜的均勻性;此外,漿料的穩(wěn)定性也會影響晶片拋光過程,所以磨料的顆粒表征非常重要,本文介紹了利用動態(tài)光散射技術(shù)(DLS)和電泳光散射技術(shù)(ELS)對硅基漿料的顆粒粒度和Zeta電位進行表征的實驗及結(jié)果討論。01丨背景介紹磨料漿液用于去除硅晶片表面的材料和不規(guī)則形貌。這樣做是為了在硅片表面形成附加電路元件。晶片的微觀形貌與所用漿料的粒度分布有關,因為粒度會影響隨后加工的電介質(zhì)膜的均勻性[1]。漿料...

    • 發(fā)布時間:2025-03-21

      激光粒度分布儀是一種集光、機、電、計算機為一體的高科技產(chǎn)品,工作原理基于光散射原理。當激光照射到顆粒上時,會產(chǎn)生衍射和散射現(xiàn)象。不同粒徑的顆粒會產(chǎn)生不同的散射光分布,通過檢測這些散射光的分布,可以反推出顆粒的粒徑分布。具體來說,激光粒度分布儀通過收集和分析散射光的信號,來確定顆粒的大小分布。通常由激光器、樣品池、光學系統(tǒng)、探測器和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)等部分組成。激光器發(fā)出的激光經(jīng)過光學系統(tǒng)聚焦后,照射到樣品池中的顆粒上。顆粒散射的光被光學系統(tǒng)收集,并聚焦到探測器上。探測器將光信號轉(zhuǎn)換...

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